国产光刻机又做出来了？听前光刻工艺工程师分析分析！
大家好，我是靖崴同学。最近又收到了很多关于国产光刻机造出来的推送，这应该是过去几年里的第N次听到这样的消息。我之前在一家大厂做过3年多的光刻工艺研发，算是光刻机公司的甲方儿子。所以想叭叭两句个人看法，为什么我们是甲方但不是爸爸而是儿子？这个在视频最后会再跟大家
光刻工艺
半导体制造的光刻工艺常用光刻胶系列
TOK提供多种类型的光刻胶，以满足各种光刻需求。这包括正胶、负胶、i-线、g-线、深紫外线（DUV）和极紫外线（EUV）光刻胶等。
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